[11p-M136-1~14] 13.3 絶縁膜技術

[11p-M136-14] Kr/O₂プラズマ酸化法を用いたHfO₂/Ge直接接合構造の作製

〇所附 武志¹、岩崎 好考¹、上野 智雄¹ (1.東京農工大工)

キーワード：ゲルマニウム