[11p-PA2-1~10] 1.3 Novel technologies and interdisciplinary engineering

[11p-PA2-9] Measurement of optical transmittance for Ti film and bulk TiO₂ processed by N₂ plasma using cathode-heated reactive ion etching

〇Koichi Hasebe¹, Mina Sato¹, Akihiro Matsutani¹, Toshihiko Takeshima², Toshihiro Isobe², Akira Nakajima², Sachiko Matsushita² (1.Semiconductor and MEMS, Tokyo Tech, 2.School of Materials and Chemical Technology, Tokyo Tech)

Keywords:plasma processing, Nitride plasma

窒化チタン（TiN）は，切削や摺動部品などの表面コーティングによる高耐摩耗化や MOSFET のバリアメタルとして広く用いられており，近年は，プラズモニックナノ構造における光熱変換の検討も行われている．TiN の作製には，Atomic Layer Deposition や反応性スパッタなどが用いられている．しかし，これらの装置を用いる場合は，装置構成が複雑になるといった課題がある．そこで，我々は，簡易な構成でTiN 膜の形成を行うことを目的として，カソード加熱機構を有するRIE 装置を用いた窒素プラズマ処理を試みたので報告する．