[11p-W833-1~12] 9.2 ナノ粒子・ナノワイヤ・ナノシート

[11p-W833-4] １-ヘキセン分子を用いたポーラスシリコンの圧力制御ヒドロシリル化と発光安定性

〇入山 拓未¹、金 蓮花¹、近藤 英一¹、ジェローズ ベルナール² (1.山梨大工、2.名古屋大工)

キーワード：ポーラスシリコン、ヒドロシリル化、１-ヘキセン

ポーラスシリコン（PSi）ナノ構造は，フッ化水素酸（HF）溶液中で低濃度にドープされたシリコンの電気化学エッチングによって形成される． As-formed PSi層の表面は一般的に不安定な結合によって終端されている．ここで，本研究では1-ヘキセンを用いたPSiの気相ヒドロシリル化を行うための手法を提案し，その効果を調べたので報告する．