[12a-W641-1~14] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[12a-W641-13] プラズマ支援反応性プロセスを用いた大面積基板へのIGZO薄膜トランジスタの形成

節原 裕一¹、〇竹中 弘祐¹、吉谷 友希¹、平山 裕之¹、遠藤 雅¹、内田 儀一郎¹、江部 明憲² (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)

キーワード：IGZO、スパッタリング