The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[12a-W641-1~14] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Tue. Mar 12, 2019 9:00 AM - 12:45 PM W641 (W641)

Keigo Takeda(Meijo Univ.), Haruka Suzuki(Nagoya Univ.)

10:15 AM - 10:30 AM

[12a-W641-6] Large-area and High-speed Surface Treatment by Long-scale Microwave Plasma at Atmospheric Pressure

Hirotsugu Koma1, Atsushi Sugiyama1, Haruka Suzuki1, Tsuyoshi Honda2, Hirotaka Toyoda1 (1.Nagoya Univ., 2.Nisshin Inc.)

Keywords:plasma

近年、真空装置を必要としない非熱平衡大気圧プラズマを大面積表面処理に応用する技術への注目が高まっている。均一かつ高密度の大規模プラズマ装置が求められており、我々は定在波を抑制した非対称構造導波管内に空間均一な電磁界分布を形成し、大気圧長尺マイクロ波プラズマを生成する手法を提案してきた。本研究では、均一な長尺マイクロ波プラズマを用いた大面積表面処理の実証を目的として、親水化処理を行った。