[9a-M114-1~12] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[9a-M114-12] Cleanroom-Free Environment-Control System PLAD for Minimal fab (Ⅲ)

〇Takashi Yajima^1,2, Noriko Miura¹, Masaharu Yasui^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.MINIMAL, 2.AIST)

Keywords:minimal fab

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化とガス遮断を行う、差圧制御・気体循環システムを開発してきた。今回、このシステムをミニマル集光加熱炉に搭載し、PLAD内部が大気環境の場合と、窒素パージを行った場合の比較実験を行い、PLAD環境が装置側チャンバーに及ぼす影響を定量的に考察した。