[9a-M114-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[9a-M114-12] 局所クリーン化ミニマル環境コントロールシステム-PLAD (Ⅲ)

〇谷島 孝^1,2、三浦 典子¹、安井 政治^1,2、クンプアン ソマワン^1,2、前川 仁^1,2、原 史朗^1,2 (1.ミニマルファブ技術研究組合、2.産総研)

キーワード：ミニマルファブ

ミニマルファブの前室システムであるPLADのクリーン化とガス遮断を行う、差圧制御・気体循環システムを開発してきた。今回、このシステムをミニマル集光加熱炉に搭載し、PLAD内部が大気環境の場合と、窒素パージを行った場合の比較実験を行い、PLAD環境が装置側チャンバーに及ぼす影響を定量的に考察した。