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[9a-M114-4] 品質工学を用いたミニマルプラズマTEOS膜の膜質向上の検討
キーワード:ミニマルファブ、プラズマCVD、品質工学
ミニマルファブでは、絶縁膜成膜装置としてプラズマCVD装置を開発し、プラズマTEOS膜をCMOSデバイスプロセスに適用しているが、実用的なLSIを作製するにあたり、より緻密で安定性の高い膜質が要求される。そこで、品質工学的手法を用い、プロセスパラメータを最適化することでTEOS膜質の向上を図ったので、その結果について報告する。