The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[9a-M121-1~11] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Sat. Mar 9, 2019 9:30 AM - 12:30 PM M121 (H121)

Taketomo Sato(Hokkaido Univ.)

11:45 AM - 12:00 PM

[9a-M121-9] Temperature Coefficients of Schottky Barrier Heights of Homoepitaxial n-type GaN for Various Schottky Metals

Ryosuke Murase1, Takuya Maeda2, Kazutaka Kanegae2, Masahiro Horita1,2,3, Jun Suda1,2,3 (1.Nagoya Univ., 2.Kyoto Univ., 3.IMaSS Nagoya Univ.)

Keywords:barrier height, Schottky, diode

Au、Pt、Pdショットキー金属を用いてn-GaN SBDを作製し、I-V測定及びC-V測定により障壁高さの温度係数を評価したので報告する。220 K~370 Kの温度域において、Au SBDの障壁高さの温度係数は、先行研究であるNi SBDの温度係数とほぼ同一であった。一方、Pt SBD及びPd SBDの障壁高さの温度変化はNi SBD及びAu SBDに比べて非常に小さく、この結果の解釈に関しては、求めた障壁高さの信頼性も含めて今後さらなる検討が必要である。