2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[9a-W541-1~12] 15.4 III-V族窒化物結晶

2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:15 W541 (W541)

秋山 亨(三重大)、谷川 智之(東北大)

11:45 〜 12:00

[9a-W541-11] GaN自立基板上pnダイオードの逆方向リーク電流とナノパイプ壁面に存在する不純物との関係

宇佐美 茂佳1、田中 敦之2,3、福島 颯太1、安藤 悠人1、出来 真斗2、新田 州吾2、本田 善央2、天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.未来材料・システム研究所、3.物材研、4.赤﨑記念研究センター、5.VBL)

キーワード:III族窒化物半導体、pnダイオード、ナノパイプ

本講演では、GaN自立基板上縦型pnダイオードで観察されるリークに関係するナノパイプとリークに関係しないナノパイプの差をナノパイプ壁面の不純物に着目し、STEM-EDS分析により不純物の寄与を明らかとするものである。