2019年第66回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[9p-PA1-1~28] 6.4 薄膜新材料

2019年3月9日(土) 13:30 〜 15:30 PA1 (屋内運動場)

13:30 〜 15:30

[9p-PA1-25] 赤外吸収分光を用いた樹脂膜上への室温原子層堆積過程のその場観察

鹿又 健作2、吉田 一樹1、齋藤 健太郎1、三浦 正範2、有馬 ボシールアハンマド1、久保田 繁1、平原 和弘1、廣瀬 文彦1 (1.山形大院、2.山形大有機材料システム)

キーワード:室温原子層堆積、赤外吸収分光、トリスジメチルアミノシラン

本研究では、樹脂膜上での原料ガス分子の吸着と酸化過程を赤外吸収分光によって観察し、シリコン上とは挙動が異なることを見出している。研究の一例として、アクリル樹脂膜上とポリエチレン微粒子膜上へのSiO2の堆積過程のその場観察を行い、得られた情報をもとに反応モデルを構築した。発表では樹脂膜上への室温原子層堆積のプロセス設計において、構築したモデルの有用性を議論する。