The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[9p-S223-1~12] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

Sat. Mar 9, 2019 1:45 PM - 5:00 PM S223 (S223)

Jiro Yamamoto(HITACHI), Jun Taniguchi(Tokyo Univ. of Sci.)

2:45 PM - 3:00 PM

[9p-S223-5] Direct Metal Nano-Patterning by Electron Beam Irradiation

〇(M2)Keita Mizuno1, Hiroko Kominami1, Atsushi Ono1 (1.Shizuoka Univ.)

Keywords:electron beam lithography, direct patterning, metal nano-structure

本研究目的は,電子線照射還元法による直接的な金属ナノパターニング技術の開発である.我々は,金属イオンを混合したポリマーに電子線を照射すると金属が析出する現象を新たに発見し,線幅110nmの銀細線のパターニングに成功した.EDS分析より,銀の特性X線エネルギー由来のピークを検出し,作製構造が銀であることを実証した.本研究により,無蒸着プロセスのワンステップ銀ナノ構造作製技術を確立した.