The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[9p-W323-1~17] 8.1 Plasma production and diagnostics

Sat. Mar 9, 2019 1:30 PM - 6:00 PM W323 (W323)

Hiroshi Akatsuka(Tokyo Tech), Tsuyohito Ito(東大)

4:00 PM - 4:15 PM

[9p-W323-10] Investigation of characteristics on dual-frequency CCP using COMSOL®

〇(D)Makato Moriyama1, Akihiro Mituya1, Naoya Nakahara1, Haruka Suzuki1, Hirotaka Toyoda1 (1.Nagoya Univ.)

Keywords:Dual-frequency CCP, FEM simulation, COMSOL Multiphysics

近年,数値解析アルゴリズムの最適化が進み,また高性能なPCが安価で入手できることから,プラズマ生成シミュレーションが広く行われるようになった。当研究室では,今年度からエッチングプロセスで用いられる二周波重畳容量結合プラズマ(DF-CCP)の基礎特性を解明する研究に着手しており,シース構造など理解をより深めるためシミュレーションによるDF-CCPの再現を試みている。本発表では,DF-CCPの数値解析結果について報告する。