The 66th JSAP Spring Meeting, 2019

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[9p-W323-1~17] 8.1 Plasma production and diagnostics

Sat. Mar 9, 2019 1:30 PM - 6:00 PM W323 (W323)

Hiroshi Akatsuka(Tokyo Tech), Tsuyohito Ito(東大)

4:15 PM - 4:30 PM

[9p-W323-11] Frequency dependence of spatial structures of interaction fluctuation between plasma and nanoparticles in reactive plasma

KUNIHIRO KAMATAKI1, REN ZHOU1, HIROSHI OTOMO1, DAISUKE YAMASHITA1, NAHO ITAGAKI1, KAZUNORI KOGA1, MASAHARU SHIRATANI1 (1.Kyushu Univ.)

Keywords:reactive plasma, nanoparticle, fluctuation

ナノデバイス創成プラズマプロセスにおけるプラズマとナノ界面の相互作用ゆらぎの抑制が重要課題となっている。そこで、本研究では、プラズマとナノ界面の相互作用を解明するため、反応性プラズマ中のナノ粒子をナノ界面のモデルとして、放電電力に振幅変調を印加することで、プラズマとナノ粒子の相互作用揺らぎの時空間構造を調べたので、本講演で詳細に説明する。