13:45 〜 14:00 [11p-Z02-4] 低酸素GaNスパッタリングターゲットを用いた高結晶性GaNの作製と評価 〇末本 祐也1、上岡 義弘1、召田 雅実1、サン リーウェン2、長田 貴弘2 (1.東ソー(株)、2.物質・材料研究機構)