The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[10a-Z03-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Sep 10, 2020 9:00 AM - 11:00 AM Z03

Takayuki Ohta(Meijo Univ.)

9:15 AM - 9:30 AM

[10a-Z03-2] Mechanism of Surface Modification for Fluororesin by Vacuum Plasma

Shinya Ueno1, Kazuyuki Noborio2, Koshi Taguchi1,2 (1.Sakigake-S Co., Ltd., 2.SAKIGAKE Co., Ltd)

Keywords:Plasma, Fluororesin, Mechanism

フッ素樹脂はその化学的な安定性から、半導体や医療機器など様々な産業で用いられている。しかしながら、その安定性故に塗装や接着が非常に困難であることも広く知られている。従来はナトリウムナフタレン錯体などの薬品を用いて表面処理を行っていたが、これは劇薬であり、廃液処理を必要とする。また、その処理は樹脂表面の変色を伴うものであり、最終目的によっては適用が難しいこともあった。プラズマ技術はドライの表面改質技術として様々な産業で使われており、フッ素樹脂に対しても様々なアプローチでの改質を実現してきた。今回はその反応メカニズムを明らかにする。