The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[10a-Z03-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

Thu. Sep 10, 2020 9:00 AM - 11:00 AM Z03

Takayuki Ohta(Meijo Univ.)

9:45 AM - 10:00 AM

[10a-Z03-4] Enhanced radical nitriding of graphene by gold nanoparticle plasmons

Ginga Sato1, Takeshi Kitajima1, Toshiki Nakano1 (1.National Defense Aca)

Keywords:plasma, Ntriding, Au nano particle

金ナノ粒子の触媒作用に注目し、グラフェン表面のラジカル照射による窒化および金ナノ粒子触媒のプラズモン効果による窒化の促進とグラフェン表面の低ダメージの窒化プロセスを検討している。試料は高真空チャンバー内で電子ビーム蒸着により金ナノ粒子を付着させ、プラズマチャンバー内で窒化のプロセスを実施した。評価にはXPSによる組成分析、ラマン分光による成分比分析、AFMによる表面分析を実施した。