[10a-Z03-1~8] 8.2 Plasma deposition of thin film, plasma etching and surface treatment

[10a-Z03-8] Numerical Analysis of Input-Power Dependence of DLC Film Deposition Process by Low-Pressure and Radio Frequency Ar/CH₄ plasma-enhanced CVD

〇(M1)Koichi Ishii¹, Shin Ogawa¹, Akinori Oda¹ (1.ChibaTech.)

Keywords:Low-Pressure Plasma, Plasma-Enhanced CVD, Diamond-Like Carbon

ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜は高硬度，耐摩耗性などを有することから様々な分野で用いられている。DLC成膜にはCH₄やC₂H₂などの炭化水素ガスを用いたプラズマCVDが多く利用されている。CH₄を用いて成膜する際に膜硬度の上昇をさせる方法として，Arガスの添加および投入電力の増加が有効であるとされている。
そこで本研究では，低圧容量結合型Ar/CH₄プラズマCVDによるDLC 成膜における投入電力依存性に関して解析したので報告する。