[10a-Z10-1~10] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[10a-Z10-9] Chamber pressure control for reducing the particles

〇Kazumasa Nemoto¹, Takashi Yajima¹, Kazuhiro koga², Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Minimal Fab)

Keywords:Minimal Fab

ミニマルファブでは、局所クリーン化技術を導入することでクリーンルームが不要である。これまで、ミニマルファブの洗浄装置では、最適な技術を開発できていなかった。そのため、洗浄後にウェハ上に微粒子が残存するという課題を抱えていた。シールド室とプロセス室の圧力差をウェハ搬送時に無くすように制御することで、局所クリーン化方式において微粒子がウェハ上に飛来することを防ぐことができることがわかった。