2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[10a-Z10-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年9月10日(木) 08:45 〜 11:30 Z10

羽深 等(横国大)

11:00 〜 11:15

[10a-Z10-9] 微粒子を減らすためのチェンバー圧力制御

根本 一正1、谷島 孝1、古賀 和博2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ

ミニマルファブでは、局所クリーン化技術を導入することでクリーンルームが不要である。これまで、ミニマルファブの洗浄装置では、最適な技術を開発できていなかった。そのため、洗浄後にウェハ上に微粒子が残存するという課題を抱えていた。シールド室とプロセス室の圧力差をウェハ搬送時に無くすように制御することで、局所クリーン化方式において微粒子がウェハ上に飛来することを防ぐことができることがわかった。