The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[10p-Z05-1~19] 6.4 Thin films and New materials

Thu. Sep 10, 2020 12:30 PM - 5:30 PM Z05

Katsuhisa Tanaka(Kyoto Univ.), Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Yuji Muraoka(Okayama Univ.)

3:00 PM - 3:15 PM

[10p-Z05-10] Characterzation of Al/Ag film consists of layers sputtered in different gases

Yusaku Ohara1, Midori Kawamura1, Takayuki Kiba1, Yoshio Abe1, Kyung Ho Kim1 (1.Kitami Inst. Tech.)

Keywords:Ag thin film, Al/Ag film

我々は、Ag 膜に Al 極薄表面層を積層させた Al/Ag 膜の高温・高湿度下での凝集耐性を報 告してきている。これまで、両層を全て Arまたは Krの単一のガスを用いてスパッタ成膜してきたが、ガスとターゲット金属の質量比を考慮すると各層を最適なガスで成膜することにより、より優れた物性が得られる可能性がある。そこで本研究では、各層でスパッタガスを変えて作製したAl/Ag 膜の特性を調査した。