[10p-Z05-1~19] 6.4 Thin films and New materials

[10p-Z05-9] Fabrication and Electrical/Optical Characterization of Metal Nanomesh Structures

〇Mai Ugajin¹, Takayuki Kiba¹, Midori Kawamura¹, Yoshio Abe¹, Kyung Ho Kim¹, Yafeng Chen², Junichi Takayama², Satoshi Hiura², Akihiro Murayama² (1.Kitami Inst. Tech., 2.IST, Hokkaido Univ.)

Keywords:Metal nanostructure, nanohole

ナノスフィアリソグラフィ(NSL)法により金属ナノメッシュ構造を作製した。金属ナノメッシュ構造は、規則配列したナノサイズの開口を持つ金属薄膜で、導電性を保ちながら光透過性を兼ね備えた性質を持つ。本研究では、反応性イオンエッチング(RIE)法により開口サイズ変化および周期の異なるメッシュ構造を作製し、その電気・光学的特性の評価を行った。