The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[10p-Z05-1~19] 6.4 Thin films and New materials

Thu. Sep 10, 2020 12:30 PM - 5:30 PM Z05

Katsuhisa Tanaka(Kyoto Univ.), Yoshinobu Nakamura(Univ. of Tokyo), Yuji Muraoka(Okayama Univ.)

3:30 PM - 3:45 PM

[10p-Z05-12] Effect of 172 nm vacuum-ultraviolet light irradiation to the cyclic olefin polymer substrate surface on orientated growth of ZnO thin films

〇(D)Tomoaki Oga1, Atsushi Oshima1, Naho Kaneko1, Satoru Kaneko2,1, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:ZnO, polymer, vacuum-ultraviolet light

ワイドギャップ酸化物半導体を用いたデバイス形成には、薄膜の結晶配向成長による物性制御が重要である。ポリマー基板上で高結晶性かつ高配向のZnO薄膜の成長を行うためには、基板への真空紫外(VUV)光照射を用いた酸化反応による表面極性官能基の形成に伴う核形成サイトの増大、および表面平坦化の効果が期待できる。ポリマー基板表面へのVUV光照射がZnO薄膜の配向成長に与える影響について検討した。