2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[10p-Z05-1~19] 6.4 薄膜新材料

2020年9月10日(木) 12:30 〜 17:30 Z05

田中 勝久(京大)、中村 吉伸(東大)、村岡 祐治(岡山大)

15:30 〜 15:45

[10p-Z05-12] 環状オレフィンポリマー基板表面への172nm真空紫外光照射が及ぼすZnO薄膜配向成長への影響

〇(D)大賀 友瑛1、大島 淳史1、金子 奈帆1、金子 智2,1、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大物質理工、2.神奈川産技総研)

キーワード:酸化亜鉛, ポリマー, 真空紫外光

ワイドギャップ酸化物半導体を用いたデバイス形成には、薄膜の結晶配向成長による物性制御が重要である。ポリマー基板上で高結晶性かつ高配向のZnO薄膜の成長を行うためには、基板への真空紫外(VUV)光照射を用いた酸化反応による表面極性官能基の形成に伴う核形成サイトの増大、および表面平坦化の効果が期待できる。ポリマー基板表面へのVUV光照射がZnO薄膜の配向成長に与える影響について検討した。