[10p-Z05-1~19] 6.4 薄膜新材料

[10p-Z05-4] アセチレン-N₂混合気体のマイクロ波プラズマ CVDによる高窒素含有a-CNx:H薄膜の作製と構造解析

〇(M1)佐藤 悠雅¹、伊藤 治彦¹ (1.長岡技術科学大学)

キーワード：プラズマCVD, アモルファス窒化炭素

本研究では 放電分解でアモルファス炭素を生成する場合に堆積速度が高いことで知られている アセチレン (C₂H₂)を原料とし 、 マイクロ波プラズマ CVDを用いてアモルファス窒化炭素 (a-CN_X)薄膜を作製した 。 その際、 キャリアガスとなる窒素の導入量を一定にし、原料の導入量を変化させて成膜を行った。成膜したそれぞれの薄膜の組成比や 窒素含有率 、結合状態 を XPS、 FT-IR、ラマン散乱分光を用いて解析を行った。