The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V-group nitride crystals

Fri. Sep 11, 2020 1:00 PM - 6:15 PM Z02

Tsutomu Araki(Ritsumeikan Univ.), Shugo Nitta(Nagoya Univ.), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.)

4:00 PM - 4:15 PM

[11p-Z02-12] Growth of AlGaN/InxGa1-xN hetero structure on AlN template

Masatomo Sumiya1, Yuki Takahara1,2, Yasutaka Imanaka1, Amira Alghamdi1,3, Andersson Andersson3, Kanji Takehana1, Akira Uedono2 (1.NIMS, 2.Univ. of Tsukuba, 3.Flinders Univ.)

Keywords:III-V nitride, AlN template, MOCVD

サファイア基板上AlNテンプレートの重要性が高まっている。その上に成長したヘテロ構造によるデバイス開発と特性向上に向けてAlNテンプレート上のIII-V族窒化物薄膜成長を議論することは重要である。今回、AlNテンプレート上にGaN薄膜を成長する際に、下地であるAlNテンプレート自体がa軸長や半値幅が変化することを見出し、その上にAlGaN/InxGa1-xNヘテロ構造を作製して磁場中でヘテロ界面での輸送特性について検討した。