The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[11p-Z02-1~19] 15.4 III-V-group nitride crystals

Fri. Sep 11, 2020 1:00 PM - 6:15 PM Z02

Tsutomu Araki(Ritsumeikan Univ.), Shugo Nitta(Nagoya Univ.), Tomoyuki Tanikawa(Osaka Univ.)

5:00 PM - 5:15 PM

[11p-Z02-15] The process of the step bunching like morphology of GaN grown on free-standing substrate

Hirotaka Watanabe1, Shugo Nitta1, Yuto Ando2, Manato Deki2,3, Atsushi Tanaka1,4, Yoshio Honda1, Hiroshi Amano1,3,4,5 (1.Nagoya Univ. IMaSS, 2.Dept. of Electronics.,Nagoya Univ., 3.Nagoya Univ. VBL, 4.NIMS, 5.Nagoya Univ. ARC)

Keywords:semiconductor, crystal growth, MOVPE

GaNは、パワーデバイス材料として有望視されているが結晶成長後にステップバンチング状の表面モフォロジーが観測されることがある。我々は、これまでにステップバンチング状のモフォジーが自立基板のオフ角度と依存性があること報告してきた。本講演では、自立GaN基板上の本研究ではGaN基板上GaNの成長過程において表面状態がどのように変化してステップバンチング状の形状に至るか検討を実施したので報告する。