[11p-Z03-3~12] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

△ [11p-Z03-10] パルス変調容量結合型プラズマにおけるキャピラリープレート下部の電荷密度変化

〇中原 尚哉¹、森山 誠¹、鈴木 陽香^1,2、豊田 浩孝^1,2,3 (1.名大工、2.名大低温プラズマ、3.核融合研)

キーワード：容量結合型プラズマ, 反応性イオンエッチング, 高アスペクト比エッチング