The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[11p-Z07-1~14] 6.3 Oxide electronics

Fri. Sep 11, 2020 1:00 PM - 4:45 PM Z07

Hisashi Shima(AIST), Seiichi KATO(物質・材料研究機構)

3:30 PM - 3:45 PM

[11p-Z07-10] Study of threshold switching device with controlling sputtered NbOx film composition

Rintaro Hatanaka1, Masahiro Morimoto1, Sota Nakamura1, Tomohiro Shimizu1, Takeshi Ito1, Shoso Shingubara1 (1.Kansai Univ.)

Keywords:threshold switching, NbOx

NbOx膜を用いた閾値スイッチング素子の実現を目指し、NbOx層の反応性スパッタ条件を様々に変えた試料を作成し、閾値スイッチング現象の発現とNbOxの膜質との相関をXPS分析等により調査した。