The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

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Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[8a-Z04-1~15] 8.1 Plasma production and diagnostics

Tue. Sep 8, 2020 8:30 AM - 12:30 PM Z04

Nakagawa Yusuke(首都大)

12:00 PM - 12:15 PM

[8a-Z04-14] External Parameters Dependence of Incident Radicals and Ions on the Substrate in RF Low-Pressure Tetramethylsilane Plasmas

Shun Suzuki1, Koichi Ishii1, Akinori Oda1, Yoshiaki Watanabe2, Takayuki Ohta3, Hiroyuki Kousaka4 (1.Chiba Tech, 2.Innovation Science Inc., 3.Meijo Univ., 4.Gifu Univ.)

Keywords:Diamond-like carbon, Tetramethylsilane Plasma, Mass Spectrometry

ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜は,高硬度や低摩擦性,ガスバリア性を有するため,切削工具やPETボトルのコーティングなど様々な分野で応用されている.その際,Siを含有したDLCは,更なる低摩擦特性をもつことから,自動車の摺動部品への適用が大きく期待されている.本講演では,Si含有DLC成膜を目的とした希ガス希釈されたテトラメチルシランプラズマ中の基板への入射イオンやラジカルの質量分析の結果を報告する.