2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[8a-Z05-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2020年9月8日(火) 09:00 〜 12:00 Z05

赤坂 大樹(東工大)、大越 康晴(電機大)

09:45 〜 10:00

[8a-Z05-4] 原子状水素による2種類のDLC膜のエッチング速度

部家 彰1、新部 正人2、原田 哲男2、赤坂 大樹3、神田 一浩2、渡邊 健夫2、住友 弘二1 (1.兵庫県立大工、2.兵庫県立大高度研、3.東工大工)

キーワード:原子状水素, 表面汚染物, アモルファスカーボン

EUVリソグラフィー装置の光学系ミラーの表面汚染物と原子状水素との反応を明らかにし、AHA法の条件最適化を図るためモデル物質を探索するため、2種類のDLC膜の除去速度を評価した。水素含有量が多いP-CVD-a-C:H の方がエッチング速度は速く、Niミラー上の汚染物のエッチング速度(0.1 nm/min)に近かった。一方、FCVA-a-C膜では60 minまでの処理では段差がほとんど観測されなかった。