2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[8a-Z05-1~11] 6.2 カーボン系薄膜

2020年9月8日(火) 09:00 〜 12:00 Z05

赤坂 大樹(東工大)、大越 康晴(電機大)

11:00 〜 11:15

[8a-Z05-8] C6系有機化合物-N2混合気体高周波プラズマを用いた 高窒素含有 a-CNx:H 薄膜の作製と構造解析

家老 克徳1、伊藤 治彦1、斎藤 秀俊1 (1.長岡技科大工)

キーワード:プラズマCVD, アモルファス窒化炭素

C6系有機化合物と窒素ガスの混合気体で高周波プラズマCVDを用いて、アモルファスな窒化炭素薄膜を作製する。
作製した薄膜は、XPSやFT-IRを用いた化学結合状態の解析やインデンテーション試験による硬さ評価を行い薄膜を分析する。