The 81st JSAP Autumn Meeting, 2020

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and diagnostics

[8p-Z21-1~7] 8.1 Plasma production and diagnostics

Tue. Sep 8, 2020 1:30 PM - 3:30 PM Z21

Shusuke Nishiyama(Hokkaido Univ.)

1:30 PM - 1:45 PM

[8p-Z21-1] Development of rotational RF magnetron sputtering system with new magnet arrangement for effective target utilization

〇(M1)Koya Yasuda1, Yasunori Ohtsu1 (1.Saga.Univ)

Keywords:plasma, spattering, target

プラズマによる薄膜合成技術の一つに, スパッタリング法がある。その中でも現在の主流として用いられているのが, マグネトロンスパッタリング法である。しかし, 従来のマグネトロンスパッタ装置のターゲット利用率は20~30%と低いことが課題である。
本研究では, 磁石回転方式を採用し, 新しい磁石配置を考案することで, ターゲット利用率を向上させることを目的としている。