[8p-Z21-1~7] 8.1 プラズマ生成・診断

[8p-Z21-2] リフレクトロン型飛行時間質量分析計を用いた高出力パルスマグネトロンスパッタリングのイオン組成分析

中込 雄基¹、西田 寛¹、西宮 信夫¹、〇實方 真臣¹、山本 宏晃²、平田 直之²、戸名 正英²、塚本 恵三²、冨宅 喜代一³、大下 慶次郎⁴、美齊津 文典⁴ (1.東京工芸大、2.（株）アヤボ、3.豊田理研、4.東北大院理)

キーワード：スパッタリング, 高出力パルスマグネトロンスパッタリング, 飛行時間質量分析法

高出力パルスマグネトロンスパッタリング(HPPMS)を用いた成膜において、プラズマ内のイオン対中性粒子数比率やイオン価数比率は、成膜性能を左右する重要な指標となる。これまで、我々の研究グループでは、HPPMSにおけるこれらの比率を明らかにするため、飛行時間型質量分析法(TOFMS)による新たな粒子分析法の開発を行ってきた。今回の講演では、TOFMSを用いたHPPPMSにおけるプラズマ内生成粒子のイオン組成(成分と価数)の観測結果について報告する。