[9a-Z10-1~11] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[9a-Z10-5] Fundamental Experiment of Particle Behavior in Minimal FabⅡ

〇Takashi Yajima¹, Sommawan Khumpuang^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

ミニマル装置の局所クリーン化技術の基礎となる、環境中の微粒子がウェハに付着する現象についての基礎的な実験と計算を行った。微粒子濃度を制御した空気中に暴露したウェハに付着する微粒子数の測定結果と、重力と層流拡散の効果で付着する微粒子数の理論式での計算結果が、おおよそ一致した。この計算によると、通常のミニマル装置内部の環境では、0.1μm以上の微粒子は2時間に1個程度の付着で全く問題ないレベルである。