安田光保

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発表者・著者、共著者

2020年3月15日(日) 09:00 〜 12:30 A305 (6-305)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[15a-A305-1~13] 13.3 絶縁膜技術

09:30 〜 09:45

[15a-A305-3] 低温酸化処理がSiO₂膜の電気的ストレス耐性に及ぼす影響

〇安田光保¹、呉研¹、高橋芳浩¹ (1.日大理工)