16:45 〜 17:00
〇林 家弘1、干川 圭吾2,3、鍛治倉 惇3、ティユ クァントゥ1、タンガラジャ アムタ1、内田 悠貴1、小石川 結樹1、大塚 文雄1、渡辺 信也1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.信州大工、3.不二越機械工業)
林 家弘
発表者・著者、共著者
2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:15 D419 (11-419)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
- | 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2020年3月15日(日) 09:30 〜 11:30 PA5 (第３体育館)
- 一般セッション(ポスター講演)
- | 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
- | 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:30 〜 11:30
〇林 家弘1、ティユ クァントゥ1、リンガパルティ ラヴィキラン1、タンガラジャ アムタ1、内田 悠貴1、大塚 文雄1、輿 公祥1、渡辺 信也1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.ノベルクリスタルテクノロジー)