一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2020年3月12日(木) 09:00 〜 12:15 D419 (11-419)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇竹知 和重1、岩松 新之輔2、村上 穣2、田邉 浩1、渡部 善幸2 (1.Tianma Japan(株)、2.山形県工技セ)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇平石 雅俊1、小嶋 健児2、岡部 博孝1、幸田 章宏1,3、門野 良典1,3、井手 啓介4、松石 聡5、雲見 日出也5、神谷 利夫4,5、細野 秀雄4,5 (1.KEK物構研、2.TRIUMF、3.総研大、4.東工大フロンティア研、5.東工大元素センター)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇清水 耕作1 (1.日大生産工)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇橋間 裕貴1、髙橋 崇典1、石河 泰明1、浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇古田 守1、森 海1、濱田 秀平1、河野 守哉1、是友 大地1、曲 勇作1 (1.高知工大)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇(M2)濱田 秀平1、是友 大地1、曲 勇作1、古田 守1 (1.高知工大)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇宮川 幹司1、中田 充1、辻 博史1、中嶋 宜樹1 (1.NHK放送技術研究所)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇加藤 昭宏1、笠井 悠莉華1、井手 啓介1、片瀬 貴義1、平松 秀典1,2、細野 秀雄1,2、神谷 利夫1,2 (1.東工大フロ研、2.東工大元素)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇小林 陸1,2、生田目 俊秀2、栗島 一徳1,2,3、女屋 崇1,2,4、大井 暁彦2、池田 直樹2、長田 貴弘2、塚越 一仁2、小椋 厚志1 (1.明治大理工、2.物材機構、3.学振特別研究員PD、4.学振特別研究員DC)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇(D)Doudou Liang1,2、Yuqiao Zhang1、Hai Jun Cho1、Hiromichi Ohta1 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.USTB)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇(M2)Zhen Chen1、Yasushi Hirose1、Tetsuya Hasegawa1 (1.Univ. of Tokyo)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇(M1)高野 圭祐1、大浦 紀頼1、小山 政俊1、前元 利彦1、佐々 誠彦1、竹添 法隆2、清水 昭宏2、伊藤 寛泰2 (1.大工大 ナノ材研、2.ウシオ電機)
スケジュール
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