09:30 〜 11:30
〇(D)Nguyen ThiKhanh Hoa1、Yuri Mizukawa1、Hiroaki Hanafusa1、Seiichiro Higashi1 (1.Hiroshima University)
一般セッション(ポスター講演)
13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
2020年3月15日(日) 09:30 〜 11:30 PB3 (第1体育館)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:30 〜 11:30
〇(D)Nguyen ThiKhanh Hoa1、Yuri Mizukawa1、Hiroaki Hanafusa1、Seiichiro Higashi1 (1.Hiroshima University)
09:30 〜 11:30
〇平井 政和1、市川 幸美1、小長井 誠1 (1.東京都市大)
09:30 〜 11:30
〇(M2)瀧澤 周平1、原 康祐1、山中 淳二1、有元 圭介1 (1.山梨大)
09:30 〜 11:30
〇(M2)Yuan Chien1、Tso-Fu Mark Chang1、Chun-Yi Chen1、Daisuke Yamane1、Hiroyuki Ito1、Katsuyuki Machida1、Kazuya Masu1、Masato Sone1 (1.Tokyo Tech)
09:30 〜 11:30
〇(M2)入谷 友樹1、新田 京太郎1、簡 佑安1、Tso-Fu Mark Chang1、山根 大輔1、伊藤 浩之1、町田 克之1、益 一哉1、曽根 正人1 (1.東工大)
09:30 〜 11:30
〇(M1)鈴木 康介1、Hashigata Ken1、浅野 啓介1、Chen Chun-Yi1、Chang Tso-Fu Mark1、名越 貴志2、山根 大輔1、町田 克之1、伊藤 浩之1、益 一哉1、曽根 正人1 (1.東工大、2.産総研)
09:30 〜 11:30
〇今泉 文伸1、熊田 純久 (1.小山高専)
09:30 〜 11:30
〇(B)本田 優斗1、田中 佐和子1、崔 容俊1、澤田 和明1、野田 俊彦1、高橋 一浩1、石井 仁1、町田 克之2、二階堂 靖彦3、斎藤 光正3、吉田 眞一4 (1.豊橋技科大、2.東工大、3.産業医科大、4.福岡聖恵病院)
09:30 〜 11:30
〇(PC)Lia Aprilia1,2、Tatsuya Meguro1、Tetsuo Tabei1、Hidenori Mimura2、Shin-Ichiro Kuroki1 (1.Hiroshima Univ.、2.Shizuoka Univ.)
09:30 〜 11:30
〇(M1)伊藤 勇毅1、簡 佑安1、Chakraborty Chakraborty1、Mark Chang Tso-Fu1、中本 高道1、曽根 正人1 (1.東工大)
09:30 〜 11:30
〇Ryota Seki1、Takuma Uehara1、Tomoyoshi Miyazaki1,2、Go Kobayashi3、Izumi Serizawa3、Masahiko Hasumi1、Takuji Arima1、Toshiyuki Sameshima1 (1.TUAT、2.TRL、3.ORC)
09:30 〜 11:30
〇(B)Erika Sekiguchi1、Tomokazu Nagao2、Masahiko Hasumi1、Yutaka Inouchi2、Junichi Tatemichi2、Toshiyuki Sameshima1 (1.TUAT、2.NISSIN ION)
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