The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.7 Compound and power electron devices and process technology

[12p-B401-1~16] 13.7 Compound and power electron devices and process technology

Thu. Mar 12, 2020 1:15 PM - 5:30 PM B401 (2-401)

Masashi Kato(Nagoya Inst. of Tech.)

3:45 PM - 4:00 PM

[12p-B401-10] Measurement of Electron and Hole Impact Ionization Coefficients in GaN

Takuya Maeda1, Tetsuo Naita2, Shinji Yamada3,4,5, Tetsu Kachi3, Tsunenobu Kimoto1, Masahiro Horita1,3,5, Jun Suda1,3,5 (1.Kyoto Univ., 2.TOYOTA Central R&D Labs., 3.Nagoya Univ. IMaSS, 4.ULVAC ISET, 5.Nagoya Univ.)

Keywords:Gallium Nitride, Avalanche Breakdown, Impact Ionization Coefficients

パワーデバイスの耐圧や安全動作領域を予測するには,衝突イオン化係数を用いたデバイスシミュレーションが必要である.これまで我々は,Franz-Keldysh効果による光吸収を利用し,光電流の電圧依存性からアバランシェ増倍係数を求める測定方法を報告してきた.本研究では,GaN p/n+接合ダイオードにバンドギャップより短波長/長波長の光を照射し,それらの光電流増倍を解析することで,GaNの電子・正孔の衝突イオン化係数を得られたので報告する.