The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[13p-D221-1~14] 6.4 Thin films and New materials

Fri. Mar 13, 2020 1:45 PM - 6:30 PM D221 (11-221)

Tetsuo Tsuchiya(AIST), Hiroaki Nishikawa(Kindai Univ.), Akira Ohtomo(Tokyo Tech)

6:00 PM - 6:15 PM

[13p-D221-13] Solid-phase epitaxy, structural and property characterization of titanium oxide thin films by uniaxial compressive annealing

Takahiro Ikuta1, Yoshiki Horimatsu1, Satoru Kaneko2,1, Akifumi Matsuda1, Mamoru Yoshimoto1 (1.Tokyo Tech, 2.KISTEC)

Keywords:thin film, titanium oxide, epitaxial

還元型チタン酸化物は、高温・強還元条件下のPLDによるエピタキシャル成長、金属-絶縁体相転移が報告されている。しかし、TiO2の高い熱力学的安定性から、マグネリ相の酸素欠損型組成制御が難しくエピタキシャル薄膜の研究はまだ少ない。本研究では、エピタキシャルTixOy薄膜の結晶相制御とその物性探索を目的として、α-Al2O3(0001)基板上におけるTiO-TiO2間組成のエピタキシャル薄膜合成とUCAが結晶構造と電気特性に及ぼす影響を検討した。