2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[13p-D419-1~16] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2020年3月13日(金) 13:45 〜 18:15 D419 (11-419)

安田 隆(石巻専修大)、池之上 卓己(京大)

17:45 〜 18:00

[13p-D419-15] β-Ga2O3ノーマリーオフMOSFETの高温動作特性

内田 悠貴1、加瀬 正史1、青木 和夫1、山腰 茂伸1、佐々木 公平1、倉又 朗人1 (1.NCT)

キーワード:β-Ga2O3、MOSFET、ノーマリーオフ

β型酸化ガリウムはバンドギャップが4.5eVと高く、高温環境下でもデバイス動作可能な材料であることが期待されている。近い将来シリコン半導体では動作できないとされる高温250℃以上における半導体化が望まれている。今回我々はβ型酸化ガリウムを用いて高温動作可能なノーマリーオフタイプのMOSFETを開発したので報告する。