2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[14a-PA4-1~5] 13.3 絶縁膜技術

2020年3月14日(土) 09:30 〜 11:30 PA4 (第3体育館)

09:30 〜 11:30

[14a-PA4-2] SiO2, Si3N4膜へのアルカリ金属・ハロゲンイオンの透過障壁

奥 友希1、戸塚 正裕1、佐々木 肇1 (1.三菱電機)

キーワード:耐湿性、アルカリ金属、保護膜

本報告では、SiO2、Si3N4膜へのイオン(Li +、Na +、K +、F-、Cl-、Br-)の透過障壁を計算した。その結果、Li +およびNa +イオンはSiO2、Si3N4膜に容易に浸透し、K +イオンはH2O分子よりもSiO2膜に浸透し易いことが分かった。これによりアルカリ金属およびハロゲンイオンの耐湿性への効果が解析できた。