Improvement of ferroelectric properties of TiN/Hf0.5Zr0.5O2/Si gate stacks by inserting Al2O3 interfacial layers

講演情報

一般セッション(口頭講演)

コードシェアセッション » 【CS.4】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

2020年3月14日(土) 13:45 〜 17:30 A303 (6-303)

藤村紀文(阪府大)、徳光永輔(北陸先端大)

16:15 〜 16:30

〇Zaoyang Lin¹、Tsung-En Lee¹、Hanzhi Tang¹、Kasidit Toprasertpong¹、Mitsuru Takenaka¹、Shinichi Takagi¹ (1.The Univ. of Tokyo)

キーワード：Ferroelectrics