The 67th JSAP Spring Meeting 2020

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

[14p-A305-1~14] 13.4 Si processing /Si based thin film / MEMS / Equipment technology

Sat. Mar 14, 2020 1:45 PM - 5:30 PM A305 (6-305)

Hiroshi Ikenoue(Kyushu Univ.), Masato Sone(Tokyo Tech)

2:15 PM - 2:30 PM

[14p-A305-3] Conversion of Liquid Si to Solid State by Electron Beam Irradiation

Masahiro Mori1, Masahiko Tomitori1, Takashi Masuda1 (1.JAIST)

Keywords:liquid silicon, electron beam

液体Siとは常温常圧で液体、360℃加熱で非晶質Si(a-Si)になる物質である。この材料は気体Si(シランガス)および固体Si(ウェハ)とは異なるアプローチからSi半導体の科学技術を切り拓くと期待されている。一方で高い加熱温度(360℃)を必要とすることが、その学術展開を制約してきた。本研究の目的は、電子線照射による非加熱での「液体Si→ a-Si」変換の実証である。