2020年第67回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[14p-B401-1~17] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2020年3月14日(土) 13:30 〜 18:15 B401 (2-401)

末光 哲也(東北大)、佐藤 威友(北大)

17:15 〜 17:30

[14p-B401-14] PDA雰囲気ガスがn-β-Ga2O3/Al2O3/Pt MOSキャパシタの電気特性へ及ぼす影響

〇(M1)廣瀬 雅史1,2、生田目 俊秀2、前田 瑛里香1,2、大井 暁彦2、池田 直樹2、色川 芳宏2、小出 康夫2、清野 肇1 (1.芝浦工大、2.物材機構)

キーワード:酸化ガリウム、酸化アルミニウム、PDA