[14p-D305-1~8] EUV・軟X線イメージングの描く未来

[14p-D305-5] EUVマスクブランクス検査装置における1200倍レビュー機能

〇武久 究¹、鈴木 智博¹、宮井 博基¹、楠瀬 治彦¹ (1.レーザーテック（株）)

キーワード：リソグラフィー、EUVマスク、マスク検査

当社ではEUVマスクブランクスの位相欠陥を検出できる検査装置として、波長13.5 nmのアクティニック光源を用いたABICS E120を製品化している。本製品では、検出した微小な欠陥を1200倍もの高倍率で拡大して、欠陥形状や欠陥座標を正確に計測できる機能を有している。
欠陥座標を正確に把握することは、欠陥の直上に吸収体を配置する手法の実現に不可欠である。この手法により、ウエハ面にパターン露光する際に、位相欠陥は投影されないことになる。さらに本手法の確立により、従来実現が極めて困難であった無欠陥ブランクスが不要になったことも、EUVリソグラフィーの実用化に大きく貢献している。