[15a-A305-1~13] 13.3 絶縁膜技術

[15a-A305-3] 低温酸化処理がSiO₂膜の電気的ストレス耐性に及ぼす影響

〇安田 光保¹、呉 研¹、高橋 芳浩¹ (1.日大理工)

キーワード：低温酸化処理、TDDB試験、SiO2膜