[15a-A305-1~13] 13.3 絶縁膜技術

△ [15a-A305-8] Al₂O₃/SiO₂界面ダイポール層強度の温度依存性と各酸化物の密度の相関

〇濱口 高志¹、喜多 浩之¹ (1.東大院工)

キーワード：界面ダイポール層

広い温度範囲での動作を想定したデバイス応用においては、異種酸化膜界面ダイポール層強度の動作温度依存性の制御が重要である。今回は酸化膜の膜質とダイポール層強度の温度依存性の相関を検討した。Al₂O₃/SiO₂界面ダイポール層強度に顕著な温度依存性が見られるのはSiO₂とAl₂O₃の双方が低密度膜である場合に限定されること、界面近傍のSiやAlの化学状態や混合状態はダイポール層強度の温度依存性の大小に影響しないことが示唆された。