11:15 AM - 11:30 AM
[15a-A305-9] Potential modulation observed from ALD-ZrO2/TiO2/SiO2 MOS structures
Keywords:interface dipole modulation, ZrO2, ALD
HfO2/SiO2 MOS構造を用いた新しいメモリ機構として界面ダイポール変調 (IDM) が提案されている。IDM動作は、EB蒸着法やALD法で形成したHfO2/SiO2 積層構造から観察されており、HfO2/SiO2界面に導入した変調層近傍で起こる構造変化がポテンシャル変化を引き起こしていると考えられている。本研究では、ZrO2/SiO2積層構造におけるIDM動作の可能性を検討した。